真空鍍膜機是生產光學濾光片至關重要的一個生產設備，但是真空鍍膜機的一些參數變化會對濾光片有什么影響呢？深圳納宏光電帶您進一步了解。

真空鍍膜機內真空度對濾光片性能的影響是由于剩余氣體與膜料原子、分子的氣相碰撞所致的能量損失及化學反應。如果真空鍍膜機內真空度低，致使膜料蒸氣分子與剩余氣體分子碰撞幾率增加，蒸氣分子動能大大減小，使得蒸氣分子無法到達基片，或無力沖破基片上的氣體吸附層，或勉強能沖破氣體吸附層但與基片的吸附能卻很小，從而導致光學濾光片器件沉積的膜層疏松，聚積密度低，機械強度差，化學成分不純，使得濾光片的膜層折射率、硬度變差。

一般來說隨著鍍膜機內真空度的提高，光學濾光片膜層的結構進一步改善，膜層的化學成分變純，但應力增大。金屬膜和半導體膜的純度越高越好，它們對鍍膜機內真空度的依賴性很大，從而需要更高的鍍膜機內真空度受真空度影響的濾光片性能主要有：折射率散射機械強度和不溶性。